镀亮镍就是电镀亮光镍,一般铜制品镀镍会镀三层,三层镍是指在同一基体上,镀取三层镍的组合镀层,由半亮光镍/高硫镍/亮光镍组成。高硫镍夹杂在半亮光镍与亮光镍之间,厚度0.5——1um,由于高硫镍含硫量高于亮光镍,电位负,所以作为腐蚀原电池的阳极,使腐蚀向横向发展,---了腐蚀的发展。与相同厚度的双层镍比较,三层镍的抗蚀性---。三层镍的厚度分配是半亮光镍厚度大于总厚度的50%,亮光镍厚度大于总厚度的20%,高硫镍小于总厚度的10%。
实施三层镍的关键在于---三层之间电位差的安稳和镀层的结合力。对电镀添加剂的选择、电镀工艺条件的控制较---。镀亮光镍有许多长处,不只可以省去深重的抛光工序,---操作条件,节约电镀和抛光材料,还能前进镀层的硬度,便于完结自动化出产。可是亮光镀镍层中含硫,内应力和脆性较大,耐蚀性不如镀暗镍层,为了打败这些缺点,可以选用多层镀镍工艺,使镀层的力学性能和耐蚀性得到明显的---。
以装修为目的的亮光镍层,要求镀层具有镜面光泽的外观。前期的亮光镀镍添加剂不具备整平性,只能给出镜面光泽的外观,对基体表面的划痕、缝隙等不能填平。
光刻胶高纯试剂 :
光刻工艺是一种表面加工技能,在半导体电子器件和集成电路制造中占有重要位置。为在表面完成选择性腐蚀,选用一类具有抗蚀作用的感光树脂材料作为抗蚀涂层,称为抗蚀剂,国内通称光刻胶。按照溶解度的不同而将光刻胶分为“正性”光刻胶和“负性”光刻胶,按所用---光源和辐射光源的不同,又可将其分为紫外、远紫外、电子束、 x 射线等光刻胶。
光刻胶是微细图形加工的一种要害试剂,要求水分低、金属杂质含量低(≤ 10 -6 )
由于部分金属的特色简略生锈,易腐蚀,易发生反应,稳定性差。这就要求咱们怎么使金属的化学稳定性更高,传统做法是电镀镍,可是电镀镍有许多局限性,如镀层厚度不均匀,必须在导电的金属表面镀,消耗电能,硬度和耐磨性欠好,防腐蚀性差。
在这种情况下,化学镍运用的越来越广泛,只要与溶液接触就可以在表面镀镍,所以厚度均匀,而电镀就会因电流分布问题而构成的镀镍分布不均匀,厚度纷歧,糟蹋材料提高了本钱。化学镀镍的化学稳定性更高,耐磨耐腐蚀性也---提高。跟着化学镀镍的技能不断进步,得到了广泛的运用,在轿车,航空,电力,等等领域都能看到化学镀镍的身影,不只延长了设备的运用寿命,还---提高了设备的稳定性.
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